特許
J-GLOBAL ID：200903052417386926

液晶表示装置およびその作製方法

発明者：
山崎 舜平

山崎 舜平 について

, 
高山 徹

高山 徹 について


出願人/特許権者：
株式会社半導体エネルギー研究所

株式会社半導体エネルギー研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-063454
公開番号（公開出願番号）：特開2004-295109
出願日： 2004年03月08日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：
【課題】 プラスチック基板を用いた液晶表示装置において、画面サイズの大面積化とともに、高精細化や高開口率化や高信頼性の要求が高まっている。また、同時に生産性の向上や低コスト化の要求も高まっている。【解決手段】本発明では、対向基板(可撓性基板)上にシリコンをターゲットとした高周波スパッタリング法による窒化珪素膜を少なくとも1層有する保護膜123を設け、シール材112を描画し、対向基板上に液晶材料114の滴下を真空で行った後、画素電極111および柱状スペーサ115が設けられた可撓性基板110と貼り合わせる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
第1の基板と、第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板とからなる一対の基板間に保持された液晶と、を備えた液晶表示装置の作製方法であり、 前記第1の基板または前記第2の基板上に高周波スパッタリング法により無機絶縁膜を形成する工程と、 前記第1の基板上に画素電極を形成する工程と、 前記第2の基板上に対向電極を形成する工程と、 前記第1の基板上に、前記一対の基板の間隔を一定に保つための柱状スペーサを形成する工程と、 前記第2の基板上にシール材を描画して仮固定する工程と、 前記第2の基板上における前記シール材に囲まれた領域に液晶材料を減圧下で滴下する工程と、 前記液晶材料を減圧下で加熱脱気する工程と、 減圧下で前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合わせる工程と、 前記シール材を固定する工程と、を有することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
IPC (3件)：
G02F1/1339 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/1341
FI (5件)：
G02F1/1339 505 ,  G02F1/1339 500 ,  G02F1/1333 500 ,  G02F1/1333 505 ,  G02F1/1341
Fターム (32件)：
2H089LA09 ,  2H089MA01X ,  2H089MA03X ,  2H089NA14 ,  2H089NA22 ,  2H089NA32 ,  2H089NA34 ,  2H089NA42 ,  2H089NA44 ,  2H089NA49 ,  2H089NA58 ,  2H089QA04 ,  2H089QA12 ,  2H089QA13 ,  2H089QA14 ,  2H089QA16 ,  2H089TA01 ,  2H089TA05 ,  2H089TA09 ,  2H090HA04 ,  2H090HB03X ,  2H090HB04X ,  2H090HC01 ,  2H090HC17 ,  2H090HD01 ,  2H090JB03 ,  2H090JC07 ,  2H090JD11 ,  2H090JD12 ,  2H090LA02 ,  2H090LA03 ,  2H090LA04
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • USP4,691,995
審査官引用 (8件)
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