特許
J-GLOBAL ID:200903052419588712
高保全性保護被膜
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
松本 研一
, 小倉 博
, 黒川 俊久
, 荒川 聡志
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-557013
公開番号(公開出願番号):特表2008-520477
出願日: 2005年11月15日
公開日(公表日): 2008年06月19日
要約:
【課題】酸素および水蒸気など化学的反応種に対して低透過度を有し、実質的に滑らかで欠陥がなく、非封入デバイス、またはデバイス内のその他の機能層または被膜を保護する、デバイスの製造に一般に使用される化学物質に対して化学的に耐性のある被膜を提供する。【解決手段】本発明の複合品の高保全性保護被膜は、少なくとも1つの平坦化層および少なくとも1つの有機-無機組成バリア被膜層を有する。本発明の他の態様の高保全性保護被膜を堆積する方法は、実質的に均質の樹脂ベース平坦化層組成物を準備し、堆積用表面を提供し、表面に平坦化層組成物を堆積し、平坦化層組成物を硬化させ、平坦化層上に反応種の反応生成物または再結合生成物を堆積し、堆積中に反応チャンバに供給された反応物の組成を変えて、有機-無機組成バリア被膜層を形成する。【選択図】図4
請求項(抜粋):
少なくとも1つの高保全性保護被膜を含む複合品であって、前記高保全性保護被膜は、少なくとも1つの有機-無機組成バリア被膜層および少なくとも1つの平坦化層を含む、複合品。
IPC (13件):
B32B 9/00
, B32B 27/00
, C09D 201/00
, C09D 163/00
, C09D 133/00
, C09D 7/12
, B32B 27/36
, B32B 27/30
, B32B 27/38
, G02F 1/133
, H05B 33/04
, H01L 51/50
, H05B 33/10
FI (13件):
B32B9/00 A
, B32B27/00 B
, C09D201/00
, C09D163/00
, C09D133/00
, C09D7/12
, B32B27/36 102
, B32B27/30 A
, B32B27/38
, G02F1/1333 500
, H05B33/04
, H05B33/14 A
, H05B33/10
Fターム (53件):
2H090JA06
, 2H090JB03
, 2H090JC07
, 2H090JD06
, 2H090JD11
, 2H090JD12
, 3K107AA01
, 3K107CC22
, 3K107CC23
, 3K107DD16
, 3K107DD18
, 3K107EE48
, 3K107EE49
, 3K107EE50
, 3K107FF00
, 3K107FF06
, 3K107FF08
, 3K107FF15
, 3K107GG06
, 4F100AA01B
, 4F100AH00B
, 4F100AK01C
, 4F100AK25C
, 4F100AK45D
, 4F100AK53C
, 4F100AL05C
, 4F100AR00C
, 4F100AT00A
, 4F100AT00D
, 4F100BA03
, 4F100BA04
, 4F100CA18C
, 4F100CA30C
, 4F100GB41
, 4F100JB01
, 4F100JB13C
, 4F100JB14C
, 4F100JD01B
, 4F100JD02D
, 4F100JD03D
, 4F100JK14C
, 4F100JK17C
, 4F100JL08C
, 4F100JN01D
, 4J038CG001
, 4J038DB041
, 4J038KA04
, 4J038KA09
, 4J038KA10
, 4J038PA17
, 4J038PA19
, 4J038PB08
, 4J038PB09
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (7件)
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