特許
J-GLOBAL ID：200903052482226634
強誘電体薄膜微細パターン形成剤及び強誘電体薄膜微細パターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-099997
公開番号（公開出願番号）：特開平6-308721
出願日： 1993年04月27日
公開日（公表日）： 1994年11月04日
要約：
【要約】【目的】 簡略な工程で強誘電体薄膜の微細パターンを形成できる強誘電体薄膜微細パターン形成剤及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。【構成】 強誘電体を構成する金属のポリメチレンカルボン酸塩を含む溶液を、強誘電体薄膜の微細パターン形成剤として用いる。このカルボン酸塩は電磁波の照射により硬化するので、基板上にこのパターン形成剤を塗布し、回路パターンに沿って電磁波照射を行い、このパターン通りに硬化させることで、基板上に回路パターンを形成する。そして、これを焼結させることにより、有機成分の除去および結晶化の促進を行い、基板上の回路パターンを強誘電体に変換する。このようにして、基板上に回路パターンを形成しこれを強誘電体に変換することにより強誘電体薄膜微細パターンが基板に形成される。
請求項（抜粋）：
強誘電体を構成する金属のポリメチレンカルボン酸塩を含む溶液からなるパターン形成剤。
IPC (6件)：
G03F 7/004 501
, C04B 41/00
, G03F 7/038
, H01L 29/788
, H01L 29/792
, H01L 27/10 451
