特許
J-GLOBAL ID：200903052488884560
化学気相成長方法及びこれに用いられる溶媒
発明者：
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宇高 克己
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-108518
公開番号（公開出願番号）：特開平7-321039
出願日： 1994年05月23日
公開日（公表日）： 1995年12月08日
要約：
【要約】【目的】 新しい金属有機化合物を原料源とすることが可能なCVD技術を提供することである。【構成】 遊離性の基を持つ金属有機化合物を、この金属有機化合物中の遊離性の基と同じ基を持つ化合物の液体に添加した後、この溶液に気相化を施し、金属有機化合物を分解し、支持体上に金属系膜を成長させる化学気相成長方法。
請求項（抜粋）：
遊離性の基を持つ金属有機化合物を、この金属有機化合物中の遊離性の基と同じ基を持つ化合物の液体に添加した後、この溶液に気相化を施し、金属有機化合物を分解し、支持体上に金属系膜を成長させることを特徴とする化学気相成長方法。
引用特許：
前のページに戻る
