回転塗布基板の不要膜除去装置用治具

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小西淳美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-206996
公開番号（公開出願番号）：特開平7-045512
出願日： 1993年07月30日
公開日（公表日）： 1995年02月14日
要約：

【要約】【目的】回転塗布された基板の外周部の厚膜化された部分を、自動的に、基板自体の品質に影響することなく、きれいに除去できる除去治具を提供【構成】回転塗布された基板の外周部の厚膜化された部分を溶剤分により溶解させ、減圧して除去する方式の不要膜除去治具において、処理される基板の外周の一部、または全部を覆い除去処理を行うヘッドは、ヘッド部と基板とで溶解用溶剤を直接不要膜へ作用させる空間部7を形成し、該空間部7へは、溶解用溶液が、空間部7上壁面9から減圧供給される溶剤供給ライン部4が接続しており、溶解された不要膜を、処理基板にわずかに接する壁面8から処理基板に平行に減圧除去排出する減圧ライン部3を接続している。

請求項（抜粋）：

回転塗布により塗布した基板の周辺部の不要膜の除去処理を、不用膜を溶剤分により溶解させ、減圧して除去する方式により、行う治具であって、少なくとも、処理される塗布基板の外周の一部または全部を覆い不要膜除去処理を行う除去ヘッド部と、該ヘッド部へ、不要膜の溶解用溶剤を供給する溶剤供給ライン部と、溶解された不要膜を減圧除去排出する減圧ライン部とが、連結されており、ヘッド部と処理基板とでヘッド部の減圧ライン端部に形成される、供給された溶解用溶剤が直接不要膜へ作用するための空間部7は、少なくともヘッドの、処理基板の端部へわずかに接する壁面8と、処理基板面に平行な壁面9と、前記基板の端部から基板の内側にあり不要膜の処理領域を決める壁面10と、処理基板とから作られるもので、溶解用溶液は減圧され、溶剤供給ライン部を経て、処理基板に平行な壁面9の壁面10側から処理基板に直角方向で供給され、溶解された不要膜は処理基板の端部へわずかに接する壁面8側から処理基板に平行方向に、少なくとも膜厚部厚さ範囲を含む孔径、位置で配設された減圧供給ライン部により減圧除去排出され、且つ、該不要膜の処理領域を決める壁面10の空間部7の外側壁面11は、空間部7側に傾斜して空間部7の端部との境部底面幅12Wを0.5mm以下と小さくしていることを特徴とする回転塗布基板の不要膜除去用治具

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/16 502

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平2-192717
フオトレジスト除去装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-302450 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開平2-157763

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審査官引用 (4件)

特開平2-192717
フオトレジスト除去装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-302450 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開平2-157763

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