特許

J-GLOBAL ID：200903052574980955

反射型マスク

発明者： 渡辺 豊 ,  塚本 雅美
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (3件)： 宮崎 昭夫 ,  伊藤 克博 ,  石橋 政幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-182768
公開番号（公開出願番号）：特開2004-266300
出願日： 2004年06月21日
公開日（公表日）： 2004年09月24日
要約：

【課題】 外形的な欠陥を有する基板であっても、ウエハ製造に問題が生じない反射型マスクを実現すること。【解決手段】 その上に非反射部が形成された反射部としての多層膜と、該多層膜を支持する基板とを有し、前記非反射部と前記反射部とでパターンを形成する反射型マスクであって、 前記基板上の前記パターンが形成されている領域の周囲には、前記多層膜が無い。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

その上に非反射部が形成された反射部としての多層膜と、該多層膜を支持する基板とを有し、前記非反射部と前記反射部とでパターンを形成する反射型マスクであって、 前記基板上の前記パターンが形成されている領域の周囲には、前記多層膜が無い反射型マスク。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F1/16

FI (2件)：

H01L21/30 531M ,  G03F1/16 A

Fターム (10件)：

2H095BB12 ,  2H095BB33 ,  2H095BC11 ,  2H095BD04 ,  2H095BD05 ,  2H095BD13 ,  5F046GD10 ,  5F046GD11 ,  5F046GD12 ,  5F046GD17

引用特許：

審査官引用 (1件)

• パターン位置測定方法および測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-239243   出願人：株式会社日立製作所