特許
J-GLOBAL ID：200903052597740803
重合体、化学増幅型レジスト組成物、および、パターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-368904
公開番号（公開出願番号）：特開2002-275215
出願日： 2001年12月03日
公開日（公表日）： 2002年09月25日
要約：
【要約】【課題】 優れた透明性と高いドライエッチング耐性とを有し、有機溶媒に対する溶解性にも優れた重合体、遠紫外光エキシマレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適な化学増幅型レジスト組成物、および、この化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 本発明の重合体は下記式(1)で示される単量体を含むモノマー組成物を(共)重合して得られるものであり、これを含有する化学増幅型レジスト組成物を用いてレジストパターンを形成する。【化1】(式(1)中、R1、R2、R3、R4は水素原子、メチル基またはエチル基であり、X1、X2はいずれか一方が(メタ)アクリロイルオキシ基であり、もう一方が水素原子である。A1、A2はともに水素原子であるか、または、A1とA2とで-O-、-CH2-または-CH2CH2-を形成している。)
請求項（抜粋）：
下記式(1)で示される単量体を含むモノマー組成物を(共)重合して得られる重合体。【化1】(式(1)中、R1、R2、R3、R4は水素原子、メチル基またはエチル基であり、X1、X2はいずれか一方が(メタ)アクリロイルオキシ基であり、もう一方が水素原子である。A1、A2はともに水素原子であるか、または、A1とA2とで-O-、-CH2-または-CH2CH2-を形成している。)
IPC (3件)：
C08F 20/28
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
C08F 20/28
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
2H025AA00
, 2H025AA02
, 2H025AA09
, 2H025AB16
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB10
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB55
, 4J100AJ02R
, 4J100AK32R
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100BA03R
, 4J100BA11P
, 4J100BA11Q
, 4J100BA11R
, 4J100BC09R
, 4J100BC53P
, 4J100BC53Q
, 4J100BC53R
, 4J100DA01
, 4J100JA38
