特許
J-GLOBAL ID：200903069251530101

ポジ型レジスト組成物

発明者：
岩井 武

岩井 武 について

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羽田 英夫

羽田 英夫 について

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佐々木 一仁

佐々木 一仁 について

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藤村 悟史

藤村 悟史 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-051811
公開番号（公開出願番号）：特開2001-242627
出願日： 2000年02月28日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
要約：
【要約】【課題】 特にArFエキシマレーザー光に対して透明性が高く、かつ高解像性を有すると共に、レジストパターン形状、耐ドライエッチング性及び基板との密着性に優れるレジストパターンを形成しうるポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)ラクトン環含有橋かけ飽和多環式炭化水素基がエステル部に結合したアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルから誘導される構成単位を主鎖に有し、かつ酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する基材樹脂成分、及び(B)露光により酸を発生する酸発生剤成分を有機溶剤に溶解してポジ型レジスト組成物とする。
請求項（抜粋）：
(A)アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルから誘導される構成単位を主鎖に有し、かつ酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する基材樹脂成分、及び(B)露光により酸を発生する酸発生剤成分を含む有機溶剤溶液からなり、上記基材樹脂成分(A)がラクトン環含有橋かけ飽和多環式炭化水素基をもつエステル部分を有するアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルから誘導される構成単位を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (8件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 8/00 ,  C08F 20/28 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/14 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (8件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 8/00 ,  C08F 20/28 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/14 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (45件)：
2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002BG071 ,  4J002EC047 ,  4J002ED027 ,  4J002EE037 ,  4J002EH037 ,  4J002EL107 ,  4J002EN008 ,  4J002EN028 ,  4J002EN108 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002EW056 ,  4J002FD200 ,  4J002FD206 ,  4J002FD207 ,  4J002GP03 ,  4J002HA05 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA16H ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100HC69 ,  4J100HC75 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (4件)
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