特許

J-GLOBAL ID：200903052601912100

ホスフィン化合物の新規製造方法

発明者： 宮野 壯太郎 ,  服部 徹太郎 ,  坂本 純一
出願人/特許権者： 住友精化株式会社
代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-049703
公開番号（公開出願番号）：特開平6-256367
出願日： 1993年03月10日
公開日（公表日）： 1994年09月13日
要約：

【要約】【目的】 温和な条件で収率よく簡便にトリアリールホスフィンが得られるホスフィン化合物の製造方法を提供する。【構成】 下記一般式〔I〕の1-アルコキシ-2-(オキソジフェニルホスフィノ)ナフタレンと求核試剤とを反応させて、下記一般式〔II〕の1-置換-2-(オキソジフェニルホスフィノ)ナフタレンを得、次いで1-置換-2-(オキソジフェニルホスフィノ)ナフタレン〔II〕を還元して下記一般式〔III〕で表される1-置換-2-(ジフェニルホスフィノ)ナフタレンを得る。【化1】【化2】【化3】(R1はアルキル基またはアラルキル基を、R2はアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシル基またはアルキルアミノ基等を示す)。

請求項（抜粋）：

下記一般式〔I〕で表される1-アルコキシ-2-(オキソジフェニルホスフィノ)ナフタレンと求核試剤とを反応させる工程を含む、下記一般式〔II〕で表される1-置換-2-(オキソジフェニルホスフィノ)ナフタレンの製造方法。【化1】(式中、R1は炭素原子数が1〜20である、アルキル基またはアラルキル基を示す)。【化2】(式中、R2は炭素原子数が1〜20である、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシル基、オキシアラルキル基、アルキルアミノ基またはアラルキルアミノ基を示す)。