特許

J-GLOBAL ID：200903052615332041

基板処理装置および基板処理方法

発明者： 森田 彰彦 ,  西村 和浩
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-169829
公開番号（公開出願番号）：特開2000-012417
出願日： 1998年06月17日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：

【要約】【課題】 ノズルが実際に移動したノズル位置の特定を可能にすること。また、ノズルの吐出位置の正確かつ短時間での調整を可能にすること。【解決手段】 基板搬送ロボットの搬送アーム70aに基板のかわりに所定の治具210を保持させる。この状態で、ノズル6を吐出位置に移動させ、ノズル6と治具210とを所定の相対的位置関係になるまで近接させる。そして、当該近接状態において基板搬送ロボットをX方向とY方向とに動作させることにより、治具をX方向とY方向とに移動させる。この移動に伴って、治具210に付設した投光部231,241からの光がノズル6によって遮光される位置がある。このため、受光部232,242から得られる出力に基づいて演算を行えばノズル位置を特定することができる。また、このノズル位置から適切な吐出位置へノズル6を移動させるための移動量を求めることができ、吐出位置の調整も可能となる。

請求項（抜粋）：

処理液を供給することによって基板に対する所定の処理を施す装置であって、(a) 基板に対して処理液を吐出するノズルと、(b) 所定の基準位置情報に基づいて前記ノズルを吐出位置に移動させるノズル駆動手段と、(c) 前記ノズルを前記吐出位置に移動させた際に前記ノズルが実際に位置するノズル位置を特定するノズル位置特定手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/68

FI (5件)：

H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 648 G ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 569 C

Fターム (12件)：

5F031BB01 ,  5F031CC12 ,  5F031EE12 ,  5F031FF03 ,  5F031GG02 ,  5F031GG12 ,  5F031KK20 ,  5F046DB05 ,  5F046JA02 ,  5F046JA04 ,  5F046LA04 ,  5F046LA11

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 処理液供給装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-282773   出願人：大日本スクリーン製造株式会社