特許

J-GLOBAL ID：200903052656109390

光強度分布の評価方法、調整方法、照明光学装置、露光装置、および露光方法

発明者： 西永 壽
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-141451
公開番号（公開出願番号）：特開2005-322855
出願日： 2004年05月11日
公開日（公表日）： 2005年11月17日
要約：

【課題】 たとえば照明光学装置の照明瞳面に形成される光強度分布の対称均一性を定量的に且つ高精度に評価することのできる評価方法。【解決手段】 光強度分布の領域内において光強度分布の中心点を通る分割線に関してほぼ対称な第1分割領域と第2分割領域とを設定する設定工程(S2)と、第1分割領域における光強度分布を第1分割領域に亘って積分して得られる第1光強度積算値、および第2分割領域における光強度分布を第2分割領域に亘って積分して得られる第2光強度積算値をそれぞれ算出する算出工程(S3)と、第1光強度積算値および第2光強度積算値に基づいて光強度分布の分割線に関する対称均一性を判断する判断工程(S4)とを含む。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

所定面に形成された光強度分布を評価する方法であって、 前記光強度分布の領域内において前記光強度分布の中心点を通る分割線に関してほぼ対称な第1分割領域と第2分割領域とを設定する設定工程と、 前記第1分割領域における光強度分布を前記第1分割領域に亘って積分して得られる第1光強度積算値、および前記第2分割領域における光強度分布を前記第2分割領域に亘って積分して得られる第2光強度積算値をそれぞれ算出する算出工程と、 前記第1光強度積算値および前記第2光強度積算値に基づいて前記光強度分布の前記分割線に関する対称均一性を判断する判断工程とを含むことを特徴とする評価方法。

IPC (4件)：

H01L21/027 ,  G01J1/02 ,  G01J1/42 ,  G03F7/20

FI (4件)：

H01L21/30 516A ,  G01J1/02 K ,  G01J1/42 D ,  G03F7/20 501

Fターム (19件)：

2G065AA04 ,  2G065AA11 ,  2G065AB05 ,  2G065AB09 ,  2G065BA04 ,  2G065BA34 ,  2G065BB06 ,  2G065BB15 ,  2G065BB26 ,  2G065BB50 ,  2G065BC15 ,  2H097BB01 ,  2H097LA10 ,  2H097LA11 ,  2H097LA15 ,  2H097LA20 ,  5F046DA02 ,  5F046DA13 ,  5F046DB05

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 弾球遊技機
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-073356   出願人：株式会社サンセイアールアンドディ