シリカ系汚れ防止剤及びシリカ系汚れ防止方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：渡邊薫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-080702
公開番号（公開出願番号）：特開2008-238020
出願日： 2007年03月27日
公開日（公表日）： 2008年10月09日
要約：

【課題】冷却水系やボイラ水系や膜処理装置等で発生するシリカ系汚れを効率的に防止すること。【解決手段】カルボキシル基を有するモノマー(アクリル酸など)と、スルホン酸基を有するモノマー(イソプレンスルホン酸など)と、N-アクリロイルモルホリンと、を共重合して得られるポリマーを少なくとも含有するシリカ系汚れ防止剤とすることで、シリカ系の汚れを効率よく防止することができる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

カルボキシル基を有するモノマーと、スルホン酸基を有するモノマーと、N-アクリロイルモルホリンモノマーと、を共重合して得られるポリマーを少なくとも含有するシリカ系汚れ防止剤。

IPC (2件)：

C02F 5/00 , C02F 5/10

FI (3件)：

C02F5/00 620C , C02F5/10 620D , C02F5/10 620B

引用特許：

出願人引用 (6件)

特許第3832882号公報。
特開昭61-107998号公報。
特開平2-31894号公報。

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