特許

J-GLOBAL ID：200903052697672929

薄膜バルク波共振器の製造方法

発明者： 平林 潤 ,  黒木 康二 ,  犬伏 和海 ,  松尾 裕
出願人/特許権者： TDK株式会社
代理人 (4件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史 ,  深澤 拓司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-079963
公開番号（公開出願番号）：特開2008-244653
出願日： 2007年03月26日
公開日（公表日）： 2008年10月09日
要約：

【課題】共振周波数及び反共振周波数の調整に好適な薄膜バルク波共振器の製造方法を提供する。【解決手段】並列腕共振器10Bの上部電極50B上に保護膜60を形成する。そしてドライエッチングにより保護膜60に複数の開口部をメッシュ状に形成し、上部電極50Bの一部を露出させる。保護膜60の開口率を調整することにより、並列腕共振器10Bの反共振周波数を直列共振器10Aの共振周波数に一致させることができる。複数の開口部がメッシュ状に形成される保護膜60は、その重みにより並列腕共振器10Bの共振周波数及び反共振周波数を調整する機能を有するため、一度の製造工程で保護膜と周波数調整膜とを形成することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

圧電体膜と、前記圧電体膜の一方の面に形成される下部電極と、前記圧電体膜の他方の面に形成される上部電極とを備える薄膜バルク波共振器を製造するための方法であって、 前記上部電極上に保護膜を形成する工程と、 ドライエッチングにより前記保護膜に複数の開口部をメッシュ状に形成し、前記上部電極の一部を露出させる工程と、 を備える薄膜バルク波共振器の製造方法。

IPC (6件)：

H03H 3/04 ,  H03H 9/54 ,  H03H 9/17 ,  H01L 41/09 ,  H01L 41/187 ,  H01L 41/22

FI (7件)：

H03H3/04 B ,  H03H9/54 Z ,  H03H9/17 F ,  H01L41/08 L ,  H01L41/18 101B ,  H01L41/18 101D ,  H01L41/22 Z

Fターム (20件)：

5J108AA02 ,  5J108AA07 ,  5J108BB07 ,  5J108BB08 ,  5J108CC04 ,  5J108CC11 ,  5J108EE03 ,  5J108EE04 ,  5J108EE07 ,  5J108EE13 ,  5J108HH03 ,  5J108HH04 ,  5J108HH05 ,  5J108JJ01 ,  5J108KK01 ,  5J108KK02 ,  5J108KK03 ,  5J108KK05 ,  5J108NA02 ,  5J108NB03

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 圧電フィルタ、通信装置および圧電フィルタの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-145463   出願人：株式会社村田製作所
• 同調用の犠牲層を使用するピエゾ電気共振器
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-508148   出願人：シーティーエス・コーポレーション