特許
J-GLOBAL ID：200903052742376694
X線分析装置およびX線照射角設定方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西教 圭一郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-117228
公開番号（公開出願番号）：特開平10-185846
出願日： 1997年05月07日
公開日（公表日）： 1998年07月14日
要約：
【要約】【課題】 被検物に対するX線照射角度を迅速かつ高精度に設定できるX線分析装置およびX線照射角設定方法を提供する。【解決手段】 X線分析装置は、X線管1と、X線を単色化する分光結晶2と、スリット3aと、半導体ウエハなどの被検物20を支持する移動テーブル4と、X線ビームB2のX線強度を検出する検出器11と、移動テーブル4の3次元位置および角度を設定するテーブル制御部5と、被検物20からの散乱X線または蛍光X線を検出する検出器6などで構成される。スリット3bが被検物20と検出器11との間に上下移動可能に設けられ、検出器11に入射するX線ビームB2の通過位置を規定する。
請求項（抜粋）：
被検物の検査面に対して所定角度でX線ビームを照射するためのX線ビーム照射手段と、検査面で反射したX線ビームの強度を検出するための第1X線検出手段と、被検物とX線ビーム検出手段との間に設けられ、X線ビーム検出手段に入射するX線ビームの通過位置を規定するためのスリットと、該スリットの位置を制御するためのスリット制御手段と、被検物を支持し、検査面の3次元位置および前記X線ビームに対する角度を制御する被検物支持手段と、検査点のほぼ真上付近に設けられ、検査面からの散乱X線または蛍光X線の強度を検出するための第2X線検出手段とを備えることを特徴とするX線分析装置。
IPC (4件)：
G01N 23/223
, G01N 23/207
, G21K 1/06
, H01L 21/66
G01N 23/223
, G01N 23/207
, G21K 1/06 M
, H01L 21/66 P
