特許
J-GLOBAL ID：200903052748841798

プラズマ処理装置

発明者：
石井 信雄

石井 信雄 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 深見 久郎 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-106776
公開番号（公開出願番号）：特開2003-303775
出願日： 2002年04月09日
公開日（公表日）： 2003年10月24日
要約：
【要約】【課題】 プラズマ生成領域を形成するための電磁界を制御して、プラズマ密度の均一なプラズマ生成領域が形成されるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 アンテナ部7は、導波管19の下端に接続される金属製のラジアル導波路7aとスロットアンテナ7bを備えている。チャンバ1の上部には天板5が配設されている。アンテナ部7と天板5との間には空気の層20が形成されている。天板5およびアンテナ部7が位置する領域の内径Bとラジアル導波路7aの内径Aとの差の半分の長さが、天板5およびアンテナ部7が位置する領域における大気(空気の層20)の誘電率と天板5の誘電率との合成誘電率に基づくマイクロ波の波長λgの半分の長さの自然数倍または0倍となっている。さらに、チャンバ1の内径Cはラジアル導波路7aの内径Aと同じかそれよりも短く設定されている。
請求項（抜粋）：
基板をプラズマ生成領域に晒して所定の処理を施すためのプラズマ処理装置であって、基板を収容するためのチャンバと、前記チャンバ内に導入される基板の上方に配置され、前記チャンバの隔壁の一部をなす天板部と、前記チャンバ内に高周波電磁界を供給することにより、前記チャンバ内における前記天板部と前記基板部との間の領域にプラズマ生成領域を形成するためのアンテナ部とを備え、前記アンテナ部は所定の内径を有するラジアル導波路を含み、前記チャンバは、前記天板部および前記アンテナ部が位置する部分では所定の内径を有し、前記ラジアル導波路の内径をA、前記天板部および前記アンテナ部が位置する部分の内径をB、前記天板部の誘電率と前記天板部および前記アンテナ部が位置する部分の空間の誘電率との合成誘電率に基づく高周波電磁界の波長をλgとすると、およそ次の式、(B-A)/2=(λg/2)・N (Nは、0または自然数)を満たすように設定された、プラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46
FI (3件)：
H01L 21/205 ,  H05H 1/46 B ,  H01L 21/302 101 D
Fターム (14件)：
5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BB32 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004DA23 ,  5F045AA09 ,  5F045AC16 ,  5F045BB02 ,  5F045DP02 ,  5F045EB02 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03 ,  5F045EH19
引用特許：
審査官引用 (4件)
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