特許
J-GLOBAL ID：200903052801501473
透明導電膜のシート抵抗値の調整方法及び透明導電膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大石 治仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-208947
公開番号（公開出願番号）：特開2001-035273
出願日： 1999年07月23日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：
【要約】【課題】基板上に形成された透明導電膜のシート抵抗値を、簡易かつ効率よく、所望のシート抵抗値に調整する方法、及び所望の抵抗値を有し、高い可視光線透過率、かつ均一な膜質の導電膜を、簡易かつ歩留り良く形成する方法を提供する。【解決手段】基板上に、直接又はその他の膜を介して透明導電膜を形成する工程と、前記透明導電膜を、所定の濃度の有機溶剤の存在下に加熱処理する工程を有する透明導電膜のシート抵抗値の調整方法、及び基板上に、直接又はその他の膜を介して透明導電膜を形成する工程と、前記透明導電膜を、所定の濃度の有機溶剤の存在下に加熱処理する工程とを有する透明導電膜の形成方法。
請求項（抜粋）：
基板上に、直接又はその他の膜を介して透明導電膜を形成する工程と、前記透明導電膜を、所定の濃度の有機溶剤の存在下に加熱処理する工程を有する、透明導電膜のシート抵抗値の調整方法。
Fターム (5件)：
5G323BA02
, 5G323BB03
, 5G323BB04
, 5G323BB05
, 5G323BC03
