特許

J-GLOBAL ID：200903036970016457

研磨用組成物及び磁気ディスク基板の研磨方法

発明者： 石飛 健 ,  貴堂 高徳
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 福田 武通 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-034178
公開番号（公開出願番号）：特開平9-204658
出願日： 1996年01月30日
公開日（公表日）： 1997年08月05日
要約：

【要約】【課題】 コンピュータ等の記憶装置に使用される磁気ディスク基板、特にアルミディスク基板を高鏡面に研磨することができ、高密度な磁気ディスク基板を製造するのに適した研磨用組成物及び磁気ディスク基板の研磨方法を提供する。【解決手段】 磁気ディスク基板を鏡面研磨する研磨用組成物において、水、ヒュームドシリカ、硝酸アルミニウムからなる。

請求項（抜粋）：

磁気ディスク基板を鏡面研磨する研磨用組成物において、水、ヒュームドシリカ、硝酸アルミニウムからなることを特徴とする研磨用組成物。

IPC (3件)：

G11B 5/84 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14 550

FI (3件)：

G11B 5/84 A ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 D

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 超研摩方法およびそのためのスラリ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-324753   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-021197   出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
• 特開平3-060420