特許
J-GLOBAL ID:200903052836741221

ニトリル化合物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-276309
公開番号(公開出願番号):特開2002-088043
出願日: 2000年09月12日
公開日(公表日): 2002年03月27日
要約:
【要約】【課題】気相接触流動層反応器を用いアンモ酸化によりニトリル化合物を工業的に製造するに際して、局所的な発熱ゾーンでの燃焼反応によるCO2やCOの副生を抑え、目的生成物であるニトリル化合物が高収率、高選択率で、経時的に安定して得られる方法を提供する。【解決手段】流動層反応器底部入口より酸素含有ガスを導入し、流動触媒層への酸素含有ガス供給口より上部に原料とアンモニアの供給口および反応熱を除熱するための冷却管を設け、原料とアンモニアの供給口上部で流動化している触媒(Wb)と酸素含有ガス供給口より上部で流動化している触媒(Wa)の重量比(Wb/Wa)を0.90以上、冷却管下端より上部で流動化している触媒(Wc)と酸素含有ガス供給口より上部で流動化している触媒(Wa)の重量比(Wc/Wa)を0.80以上とする。
請求項(抜粋):
有機置換基を有する炭素環化合物または複素環化合物を原料として、アンモニアおよび酸素含有ガスとの気相接触流動層反応によりアンモ酸化させてニトリル化合物を製造するに際し、流動層反応器底部より酸素含有ガスを導入し、流動触媒層への酸素含有ガス供給口より上部に原料とアンモニアの供給口および反応熱を除熱するための冷却管を設け、かつ原料とアンモニアの供給口より上部で流動化している触媒(Wb)と酸素含有ガス供給口より上部で流動化している触媒(Wa)の重量比(Wb/Wa)が0.90以上であり、冷却管下端より上部で流動化している触媒(Wc)と酸素含有ガス供給口より上部で流動化している触媒(Wa)の重量比(Wc/Wa)が0.80以上であることを特徴とするニトリル化合物の製造方法。
IPC (6件):
C07C253/24 ,  B01J 27/199 ,  B01J 37/00 ,  C07C255/50 ,  C07C255/51 ,  C07B 61/00 300
FI (6件):
C07C253/24 ,  B01J 27/199 Z ,  B01J 37/00 F ,  C07C255/50 ,  C07C255/51 ,  C07B 61/00 300
Fターム (31件):
4G069AA02 ,  4G069AA08 ,  4G069BB06B ,  4G069BC02B ,  4G069BC03B ,  4G069BC54B ,  4G069BC58B ,  4G069BC59B ,  4G069BD03B ,  4G069BD07B ,  4G069CB53 ,  4G069DA08 ,  4G069EA01Y ,  4G069FA01 ,  4G069FB57 ,  4H006AA02 ,  4H006AC54 ,  4H006BA02 ,  4H006BA12 ,  4H006BA14 ,  4H006BA19 ,  4H006BA30 ,  4H006BA82 ,  4H006BC13 ,  4H006BD21 ,  4H006BD81 ,  4H006BE14 ,  4H006BE30 ,  4H006QN24 ,  4H039CA70 ,  4H039CL50
引用特許:
審査官引用 (7件)
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引用文献:
審査官引用 (3件)
  • プロセスハンドブック, 1976, Vol.2, IPN-MGC-(76/4) B
  • プロセスハンドブック, 1976, Vol.2, IPN-MGC-(76/4) B
  • プロセスハンドブック, 1976, Vol.2, IPN-MGC-(76/4) B

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