特許

J-GLOBAL ID：200903052839620131

薄膜形成装置と薄膜形成方法、回路パターンの製造装置と回路パターンの製造方法と電子機器、及びレジストパターンの製造装置とレジストパターンの製造方法

発明者： 桜田 和昭
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-050452
公開番号（公開出願番号）：特開2003-249440
出願日： 2002年02月26日
公開日（公表日）： 2003年09月05日
要約：

【要約】【課題】 高精細なパターンを容易にかつ効率良く作製可能な薄膜形成装置と薄膜形成方法、回路パターンの製造装置と回路パターンの製造方法と電子機器、及びレジストパターンの製造装置とレジストパターンの製造方法を提供する。【解決手段】 基板SUB上に塗布液Lを塗布して薄膜を形成する薄膜形成装置1であり、基板を載置して第1の方向と、それと交差する第2の方向とに移動させる移動機構4と、移動機構によって第1の方向を移動する基板上に塗布液を吐出する第1液滴吐出ヘッド2と、移動機構によって第2の方向を移動する基板上に塗布液を吐出する第2液滴吐出ヘッド3と、移動機構の移動動作と第1、第2液滴吐出ヘッドの塗布液吐出を制御する制御部Cとを備えている。

請求項（抜粋）：

溶剤中に膜材料が溶解または分散されてなる塗布液を基板上に塗布して薄膜を形成する薄膜形成装置であって、前記基板を載置し、該基板を第1の方向と、該第1の方向と交差する第2の方向とに移動させる移動機構と、該移動機構によって第1の方向を移動する基板上に塗布液を吐出する第1吐出手段と、該移動機構によって第2の方向を移動する基板上に塗布液を吐出する第2吐出手段と、前記移動機構の移動動作と前記第1、第2吐出手段の塗布液吐出を制御する制御部とを備え、該制御部は、移動機構によって第1の方向に沿って基板が移動する際に第1吐出手段から塗布液を吐出することと、第2の方向に沿って基板が移動する際に第2吐出手段から塗布液を吐出することを少なくとも制御することを特徴とする薄膜形成装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  B05C 5/00 101 ,  B05C 11/10 ,  B05D 1/26 ,  B05D 3/00 ,  G03F 7/16 501

FI (6件)：

B05C 5/00 101 ,  B05C 11/10 ,  B05D 1/26 Z ,  B05D 3/00 B ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/30 564 Z

Fターム (36件)：

2H025AA00 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025EA04 ,  4D075AC08 ,  4D075AC09 ,  4D075AC73 ,  4D075AC84 ,  4D075AC88 ,  4D075AC93 ,  4D075CA47 ,  4D075DA06 ,  4D075DB01 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DB53 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4D075EA10 ,  4D075EA45 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AB02 ,  4F041BA05 ,  4F041BA13 ,  4F041BA22 ,  4F041BA38 ,  4F042AA02 ,  4F042AA10 ,  4F042BA08 ,  4F042CB08 ,  4F042DF24 ,  4F042DF26 ,  5F046JA01 ,  5F046JA02

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-088135   出願人：大日本スクリーン製造株式会社