特許

J-GLOBAL ID：200903052961801228

光学多層膜及び光学素子

発明者： 鵜澤 邦彦
出願人/特許権者： オリンパス株式会社
代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  高柴 忠夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-116684
公開番号（公開出願番号）：特開2005-300889
出願日： 2004年04月12日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：

【課題】 基板表面に形成する光学多層膜において、厚さの薄い基板に光学多層膜を形成する場合でも基板の反りや変形を防止すると共に、透過率の低下を抑制できるようにする。【解決手段】 基板3の表面3aに形成される光学多層膜5であって、互いの膜屈折率が異なり、前記表面3aに交互に積層された低屈折率層7及び高屈折率層9を備え、前記低屈折率層7が酸化窒化硅素から構成された光学多層膜5を提供する。また、前記高屈折率層9が、酸化窒化硅素を除く酸化窒化物から構成された光学多層膜5を提供する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板の表面に形成される光学多層膜であって、 互いの膜屈折率が異なり、前記表面に交互に積層された低屈折率層及び高屈折率層を備え、 前記低屈折率層が酸化窒化硅素から構成されていることを特徴とする光学多層膜。

IPC (3件)：

G02B5/28 ,  B32B7/02 ,  B32B9/00

FI (3件)：

G02B5/28 ,  B32B7/02 103 ,  B32B9/00 A

Fターム (35件)：

2H048GA04 ,  2H048GA12 ,  2H048GA27 ,  2H048GA33 ,  2H048GA61 ,  4F100AA20B ,  4F100AA20D ,  4F100AA27C ,  4F100AA27E ,  4F100AD03C ,  4F100AD03E ,  4F100AD04C ,  4F100AD04E ,  4F100AD05B ,  4F100AD05D ,  4F100AG00A ,  4F100AT00A ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA08 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10E ,  4F100BA26 ,  4F100GB41 ,  4F100JK02 ,  4F100JK05 ,  4F100JN01 ,  4F100JN18B ,  4F100JN18C ,  4F100JN18D ,  4F100JN18E ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C ,  4F100YY00D ,  4F100YY00E

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 多層膜光学部品およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-083176   出願人：キヤノン株式会社