特許
J-GLOBAL ID：200903052973595828

超純水製造装置

発明者：
古川 征弘

古川 征弘 について


出願人/特許権者：
栗田工業株式会社

栗田工業株式会社 について


代理人 (1件)： 福田 武通 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-344054
公開番号（公開出願番号）：特開2000-167567
出願日： 1998年12月03日
公開日（公表日）： 2000年06月20日
要約：
【要約】【課題】 より高純度化された超純水水質、即ち、TOC 2ppb以下の超純水を安定に製造できる超純水製造装置を提案する。【解決手段】 前処理装置、一次純水製造装置、サブシステムからなる超純水装置において、前処理装置及び一次純水製造装置の任意の位置に被処理水中のトリハロメタンの大部分を除去するトリハロメタン除去装置を設けた。
請求項（抜粋）：
前処理装置、一次純水製造装置、サブシステムからなる超純水装置において、前処理装置及び一次純水製造装置の任意の位置に被処理水中のトリハロメタンの大部分を除去するトリハロメタン除去装置を設けたことを特徴とする超純水製造装置。
IPC (5件)：
C02F 1/58 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504
FI (11件)：
C02F 1/58 A ,  C02F 9/00 502 P ,  C02F 9/00 502 H ,  C02F 9/00 502 J ,  C02F 9/00 502 F ,  C02F 9/00 502 B ,  C02F 9/00 502 R ,  C02F 9/00 502 E ,  C02F 9/00 502 Z ,  C02F 9/00 503 B ,  C02F 9/00 504 E
Fターム (14件)：
4D038AA01 ,  4D038AA02 ,  4D038AB14 ,  4D038BA02 ,  4D038BB02 ,  4D038BB03 ,  4D038BB04 ,  4D038BB06 ,  4D038BB08 ,  4D038BB09 ,  4D038BB10 ,  4D038BB16 ,  4D038BB17 ,  4D038BB18
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 超純水製造装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-189025   出願人：野村マイクロ・サイエンス株式会社
  • 水の放散処理方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-128739   出願人：栗田工業株式会社

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