超純水製造装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：須山佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-189025
公開番号（公開出願番号）：特開平9-029245
出願日： 1995年07月25日
公開日（公表日）： 1997年02月04日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】イオン交換樹脂の酸化劣化および微生物の増殖や有機物の再溶出の問題を発生させたりせずに少ない消費電力、省スペース性により安定した運転ができる、被処理水中の微量の有機物をほぼ完全に除去することを可能とした超純水製造装置を提供する。【解決手段】被処理水中の溶存気体および揮発性有機物を除去する常圧脱気装置3と、溶解あるいは分散している塩類、有機物、微粒子および生菌を除去する逆浸透装置6と、紫外線を照射して有機物を分解する第1の紫外線有機物分解装置7と、イオン成分を除去する第1のイオン交換装置8と、溶存気体および揮発性有機物を除去する真空脱気装置9と、紫外線を照射して有機物を分解する第2の紫外線有機物分解装置11と、イオン成分を除去する第2のイオン交換装置12とを被処理水の流路に沿って順に設けて構成される超純水製造装置。

請求項（抜粋）：

被処理水から不純物を除去して超純水を製造する超純水製造装置において、常圧脱気装置と、逆浸透装置と、第1の紫外線有機物分解装置と、第1のイオン交換装置と、真空脱気装置と、第2の紫外線有機物分解装置と、第2のイオン交換装置とを前記被処理水の流路に沿って順に設けてなることを特微とする超純水製造装置。

IPC (9件)：

C02F 1/32 , B01D 19/00 , B01D 19/00 101 , C02F 1/20 , C02F 1/42 , C02F 1/44 , C02F 9/00 502 , C02F 9/00 , C02F 9/00 503

FI (11件)：

C02F 1/32 , B01D 19/00 Z , B01D 19/00 101 , C02F 1/20 A , C02F 1/42 A , C02F 1/44 J , C02F 9/00 502 H , C02F 9/00 502 J , C02F 9/00 502 N , C02F 9/00 502 F , C02F 9/00 503 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭60-261585
迅速かつ簡易装着式コンドーム
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-050969 出願人：本村具栄
純水の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-204187 出願人：直江津電子工業株式会社, 信越半導体株式会社, 千代田工販株式会社

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