特許
J-GLOBAL ID：200903053058615511
二段床式キシレン異性化
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青山 葆 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-517117
公開番号（公開出願番号）：特表平10-509720
出願日： 1995年11月16日
公開日（公表日）： 1998年09月22日
要約：
【要約】エチルベンゼン及び少なくとも1種のキシレンを含んでなる芳香族炭化水素化合物の混合物の異性化を、2成分触媒系を用いて行い、エチルベンゼンを、芳香族炭化水素化合物ストリームから除去し得る化合物に転化し、パラキシレン濃度がパラ異性体の平衡値にほぼ等しい生成物ストリームを生成する。第1の触媒は、エチルベンゼン転化に有効な中間孔寸法ゼオライトを含む。第1の触媒は、シリカ結合されたものであることが好ましい。第2の触媒は、小さな結晶寸法を有し、キシレン異性化を触媒するのに有効である中間孔寸法ゼオライトを含む。本発明のいずれの触媒も、1種またはそれ以上の水素化/脱水素化成分を含むことができる。
請求項（抜粋）：
エチルベンゼン及び少なくとも1種のキシレンを含有するフィードから芳香族化合物を製造する方法であって、 (a)フィードを、エチルベンゼン転化条件下で第1の触媒に接触させることによって、エチルベンゼンの減少した生成物を生成する工程であって、 第1の触媒は、温度800°F(426.7°C)、圧力150psig(1136kPaa)、重量時間空間速度20hr-1及び水素対炭化水素モル比1にて、60重量%のメタキシレン、20重量%のオルトキシレン及び20重量%のエチルベンゼンを含むフィードに接触する試験を行った場合に、12重量%以下のパラキシレンを生成するのに有効である工程、並びに (b)キシレン異性化条件下で、エチルベンゼンの減少した生成物を第2の触媒に接触させる工程を含んでなる方法。
IPC (3件)：
C07C 15/067
, B01J 29/04
, C07C 5/27
C07C 15/067
, B01J 29/04 Z
, C07C 5/27
