特許

J-GLOBAL ID：200903053066947175

回折光検出装置および検査システム

発明者： 久田 菜穂子
出願人/特許権者： オリンパス株式会社
代理人 (6件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  高柴 忠夫 ,  増井 裕士
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-238205
公開番号（公開出願番号）：特開2008-058248
出願日： 2006年09月01日
公開日（公表日）： 2008年03月13日
要約：

【課題】回折光検出装置および検査システムにおいて、被検体表面の周期的パターンによる回折光の回折方向の情報を、短時間で容易に取得することができるようにする。【解決手段】周期的なパターンが形成された基板3に対して略平行光を照射する投光部10と、投光部10から照射される略平行光である入射光103bが照射された基板3から複数の方向に放射される回折光104の位置および光強度を検出する撮像素子14と、撮像素子14の検出出力から回折光104の回折方向を検知する位置検知処理ユニット15とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

周期的なパターンが形成された被検体に対して略平行光を照射する投光部と、 該投光部から照射される略平行光が照射された前記被検体から複数の方向に放射される回折光の位置を検出する光検出部と、 該光検出部の検出出力から前記回折光の回折方向を検知する位置検知手段とを備える回折光検出装置。

IPC (3件)：

G01N 21/956 ,  G01B 11/30 ,  H01L 21/66

FI (4件)：

G01N21/956 A ,  G01B11/30 Z ,  G01B11/30 A ,  H01L21/66 J

Fターム (42件)：

2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065BB18 ,  2F065CC19 ,  2F065CC25 ,  2F065FF44 ,  2F065FF48 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL04 ,  2F065LL30 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ28 ,  2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051AB20 ,  2G051BA10 ,  2G051BB03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB06 ,  2G051DA07 ,  2G051EA16 ,  4M106AA01 ,  4M106BA05 ,  4M106CA38 ,  4M106DB04 ,  4M106DB08 ,  4M106DB12 ,  4M106DB13 ,  4M106DB15 ,  4M106DB19 ,  4M106DJ17 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ23

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 表面検査方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-076199   出願人：オリンパス株式会社