特許
J-GLOBAL ID:200903053093489537

レーザ支援加工方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小池 晃 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-012372
公開番号(公開出願番号):特開2002-210730
出願日: 2001年01月19日
公開日(公表日): 2002年07月30日
要約:
【要約】【課題】 ダイヤモンドやサファイヤの如き硬質の被加工材料に対しても、極微小な孔を形成する加工が容易、かつ、確実に行えるようにし、また、被加工材料の内部にまで亘る3次元的な加工が行えるようにする。【解決手段】 透明材料からなる被加工材料1に対し、レーザビーム2を集光して照射し、このレーザビーム2の照射位置を被加工材料1内において、少なくとも1箇所は被加工材料1の表面上である位置を含めて走査させ、この被加工材料1のレーザビーム2が照射された部分を、エッチング処理により取り除き、孔を形成する。
請求項(抜粋):
透明材料からなる被加工材料に対し、レーザビームを集光して照射し、上記レーザビームの照射位置を、該被加工材料内において、少なくとも1箇所は該被加工材料の表面上である位置を含めて走査させ、上記被加工材料の上記レーザビームが照射された部分を、エッチング処理により取り除き、該部分を孔とすることを特徴とするレーザ支援加工方法。
IPC (3件):
B28D 5/04 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/00 330
FI (3件):
B28D 5/04 Z ,  B23K 26/00 G ,  B23K 26/00 330
Fターム (16件):
3C069AA04 ,  3C069BA00 ,  3C069BA08 ,  3C069BB01 ,  3C069BB04 ,  3C069CA02 ,  3C069CA11 ,  3C069EA01 ,  3C069EA02 ,  4E068AA01 ,  4E068AF00 ,  4E068CA01 ,  4E068DA00 ,  4E068DB00 ,  4E068DB12 ,  4E068DB13
引用特許:
審査官引用 (4件)
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