ディスク基板の内部応力状態の測定法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：谷義一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-035820
公開番号（公開出願番号）：特開2001-228034
出願日： 2000年02月14日
公開日（公表日）： 2001年08月24日
要約：

【要約】【課題】ディスク基板の内部状態、つまり応力歪みや流動配向状態等を定量的に自動解析することのできる測定法を提供すること。【解決手段】光源10からの直線偏光は、任意の楕円偏光状態を得るためにリターダー11に入射され、楕円の主軸方位を回転させるため半波長板1を透過する。その後、面情報を得るためにレンズ系2、3により2次元に拡大し、ディスク基板12を透過することによって試料に発生する内部応力状態や高分子の配向状態等による複屈折の影響を受け位相変化が生じる。この位相変化を受けた光波はさらに、リターダー11の主軸方位と直交する方位に設置された偏光子4を透過後、レンズ系5により、拡大・局部観察を目的にそって使用し、CCD13に結像させて、光強度として検出される。

請求項（抜粋）：

光源からの直線偏光の主軸に位相差を与えた光波を、成形されたディスク基板上に入射して、該ディスク基板の内部に生じる複屈折による偏光の変化量から複屈折位相差と主軸方位の変化を画像処理し、成形された前記ディスク基板の内部応力歪み、樹脂の成形時の流動状態や複屈折分布などの面内分布を、位相シフト法を用いて多次元に複屈折を測定することを特徴とするディスク基板の内部応力状態の測定法。

IPC (3件)：

G01L 1/00 , G01N 21/23 , G11B 7/26

FI (3件)：

G01L 1/00 B , G01N 21/23 , G11B 7/26

Fターム (17件)：

2G059AA02 , 2G059BB08 , 2G059DD13 , 2G059EE05 , 2G059GG06 , 2G059JJ11 , 2G059JJ18 , 2G059JJ19 , 2G059JJ20 , 2G059KK04 , 2G059MM01 , 2G059PP04 , 5D121AA02 , 5D121DD17 , 5D121DD20 , 5D121HH12 , 5D121HH18

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