特許
J-GLOBAL ID：200903053178430027
回転角を正確に測定する方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
瀧野 秀雄
, 越智 浩史
, 瀧野 文雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-242550
公開番号（公開出願番号）：特開2006-071634
出願日： 2005年08月24日
公開日（公表日）： 2006年03月16日
要約：
【課題】回転角を正確に計測できる方法と装置を提供する。【解決手段】軸(a)の周りの回転角(w)を正確に計測する方法において、中心(4)の周りに配置された複数パターン要素(5〜13)の少なくとも一部が、回転方向の列として配置される。光検出器(1)の直列配列された複数の検出素子(2)に、少なくとも部分的に光ビームが放射される。パターン要素は回転ボディ(3)上に配置され、その回転ボディは、軸の周りに回転し、検出器に関連づけられる。照射されたパターン要素の位置(p)は、その検出器の検出素子により解像される。回転角を算出する時に、軸に対するパターン中心の偏心(e)の影響が、パターン要素の少なくとも一つの解像位置から算出される。回転角は、列として配置されたパターン要素の解像位置(p1、p2、p3)から正確に算定される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光検出器(1)と回転ボディ(3)とにより回転角(w)を正確に計測する方法であって、該光検出器(1)は直列に配列された複数検出素子(2)を有し、該回転ボディ(3)はパターン中心(4)周りに回転方向の列として配置された複数パターン要素(5〜13)を有し、該回転ボディ(3)は軸(a)の周りに回転可能であり該光検出器(1)に関連づけられ、該方法は、
少なくとも幾つかの該パターン要素(5〜13)は、少なくとも部分的に該検出素子(2)上で、光ビームで照射され、
照射された該パターン要素(5〜13)の位置(p)が、該光検出器(1)の該検出素子(2)により解像され、
回転角を測定する時に、該軸(a)に対する該パターン中心(4)の偏心(e)の影響が、該パターン要素(5〜13)の少なくとも一つの解像位置(p)から算定され、
該算定された影響を考慮にいれて、該回転角(w)が、列として配置された複数パターン要素(5、6、7)の解像位置(p1、p2、p3)から正確に算定される、上記方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
Fターム (8件)：
2F103BA05
, 2F103CA02
, 2F103DA13
, 2F103EA03
, 2F103EA04
, 2F103EB14
, 2F103EB16
, 2F103EB33
出願人引用 (3件)
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米国特許第5,214,426号
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米国特許第4,580,047号
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DE-A-1811961
審査官引用 (5件)
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位置検出装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-335082
出願人：ミノルタ株式会社
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オプトエレクトロニックロータリエンコーダ
公報種別：公表公報
出願番号：特願平9-517173
出願人：レニショウパブリックリミテッドカンパニー
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特開昭62-157764
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