特許
J-GLOBAL ID:200903053207072100

アルミニウム合金薄膜、ターゲット材及び薄膜形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡辺 望稔 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-146701
公開番号(公開出願番号):特開2000-336447
出願日: 1999年05月26日
公開日(公表日): 2000年12月05日
要約:
【要約】【課題】300〜400°Cでの熱処理後にもヒロックの発生が無く、比抵抗が10μΩcm以下となる耐熱性・低抵抗アルミニウム合金薄膜を提供すること。【解決手段】合金成分としてアルミニウム、炭素及びマンガンを含み、炭素及びマンガンの含有量が、炭素の原子百分率をYat%、マンガンの原子百分率をXat%として、式3XY≧1、X≦2、Y≦1を満足する量であり、残部がアルミニウム及び不可避の不純物からなるアルミニウム合金薄膜、アルミニウム合金薄膜形成用スパッタリングターゲット材、及びアルミニウム合金薄膜の形成方法。
請求項(抜粋):
合金成分としてアルミニウム、炭素及びマンガンを含み、炭素及びマンガンの含有量が、炭素の原子百分率をYat%、マンガンの原子百分率をXat%として、式3XY≧1X≦2Y≦1を満足する量であり、残部がアルミニウム及び不可避の不純物からなることを特徴とするアルミニウム合金薄膜。
IPC (3件):
C22C 21/00 ,  G02F 1/1343 ,  H05K 1/09
FI (3件):
C22C 21/00 N ,  G02F 1/1343 ,  H05K 1/09 A
Fターム (16件):
2H092HA06 ,  2H092MA05 ,  2H092NA16 ,  2H092NA25 ,  2H092NA28 ,  2H092NA29 ,  4E351AA13 ,  4E351BB32 ,  4E351CC03 ,  4E351DD10 ,  4E351DD21 ,  4E351DD28 ,  4E351DD29 ,  4E351GG04 ,  4E351GG06 ,  4E351GG20
引用特許:
審査官引用 (1件)

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