特許
J-GLOBAL ID：200903053213296975
マイクロパターン化細胞基質およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-205710
公開番号（公開出願番号）：特開2005-052011
出願日： 2003年08月04日
公開日（公表日）： 2005年03月03日
要約：
【課題】例えば肝実質細胞と肝非実質細胞などのような異なる2種類以上の細胞の共培養においてそれぞれの細胞を2次元でデザインされた表面に配置できるような培養手段を提供すること。【解決手段】炭素を構成元素として含む高分子材料の表面にイオンビームをパターン化し照射することにより形成される該高分子材料表面のイオンビーム照射層を剥離させることにより得られる微細加工表面を有する細胞培養用担体。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
炭素を構成元素として含む高分子材料の表面にイオンビームをパターン化して照射することにより形成される該高分子材料表面のイオンビーム照射層を剥離させることにより得られる微細加工表面を有する細胞培養用担体。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
4B065AA93X
, 4B065BC41
, 4B065CA44
, 4B065CA46
