荷電粒子線装置及び荷電粒子線照射方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：平木祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-305267
公開番号（公開出願番号）：特開2004-127930
出願日： 2003年08月28日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：

【課題】試料に対してビームを傾斜しても分解能低下の少ない荷電粒子線装置を提供する。【解決手段】複数のレンズ6,7に対して一次ビーム4の軌道を偏向器、或いは可動絞りによって、軸外に通し、その軸外軌道を制御することにより、ビーム傾斜時に対物レンズ7で発生する収差を他のレンズ6の収差でキャンセルする手段を備えた。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

荷電粒子源と、当該荷電粒子源から放出される荷電粒子線を集束して試料上で走査する荷電粒子光学系を備えた荷電粒子線装置において、対物レンズを含む、少なくとも2段の集束レンズに対して荷電粒子線の入射位置を制御可能な光軸制御手段を備え、対物レンズと他のレンズで作る軸外色収差が互いにキャンセルされるように、当該光軸制御手段により荷電粒子線の入射位置を制御することを特徴とする荷電粒子線装置。

IPC (2件)：

H01J37/153 , H01J37/28

FI (2件)：

H01J37/153 B , H01J37/28 B

Fターム (4件)：

5C033JJ01 , 5C033JJ07 , 5C033UU02 , 5C033UU03

引用特許：

出願人引用 (5件)

実開昭55-48610号公報
特開平2-33843号公報
荷電粒子ビーム装置用カラム
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-115454 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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審査官引用 (3件)

特公昭50-002354
粒子線装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-094085 出願人：株式会社アドバンテスト
特開昭51-076963

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