特許
J-GLOBAL ID：200903053255355874

光硬化性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント

発明者：
佐藤 邦明

佐藤 邦明 について

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平倉 裕昭

平倉 裕昭 について

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伊藤 敏彦

伊藤 敏彦 について

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平山 隆雄

平山 隆雄 について

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吉野 利純

吉野 利純 について


出願人/特許権者：
日立化成工業株式会社

日立化成工業株式会社 について


代理人 (1件)： 三好 秀和 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-281900
公開番号（公開出願番号）：特開2002-162738
出願日： 1998年11月19日
公開日（公表日）： 2002年06月07日
要約：
【要約】【課題】 耐熱性、耐湿熱性、密着性、機械特性、電気特性に優れた高性能な硬化膜を得ることができ、プリント配線板、高密度多層板及び半導体パッケージ等の製造に好適に用いられる光硬化性樹脂組成物及びこの光硬化性樹脂組成物の層を支持体に積層してなる優れた耐熱性、耐湿熱性、密着性、機械特性、電気絶縁性を有する硬化膜が得られる感光性エレメントを提供する。【解決手段】 酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂(A)、エラストマー(B)、光重合開始剤(C)、希釈剤(D)及び硬化剤(E)を必須成分とすることを特徴とする光硬化性樹脂組成物、200〜220°C領域における動的粘弾性測定で、組成物の硬化皮膜の弾性率が1〜100MPaであることを特徴とする永久マスク用光硬化性樹脂組成物並びにこれらの光硬化性樹脂組成物の層を支持体に積層してなる感光性エレメント。
請求項（抜粋）：
酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂(A)、熱可塑性エラストマー(B)、光重合開始剤(C)、希釈剤(D)及び硬化剤(E)を必須成分とする光硬化性樹脂組成物であって、前記熱可塑性エラストマー(B)が、スチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、ポリエステル系エラストマー、ポリアミド系エラストマー、アクリル系エラストマー及びシリコーン系エラストマーからなる群から選択される少なくとも1種類のエラストマーである永久マスクレジスト用光硬化性樹脂組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/027 515 ,  C08G 59/16 ,  C08G 59/20 ,  G03F 7/032 ,  H05K 3/28
FI (5件)：
G03F 7/027 515 ,  C08G 59/16 ,  C08G 59/20 ,  G03F 7/032 ,  H05K 3/28 D
Fターム (72件)：
2H025AA10 ,  2H025AA13 ,  2H025AA14 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC72 ,  2H025BC73 ,  2H025BC74 ,  2H025CA00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB20 ,  2H025CB22 ,  2H025CB23 ,  2H025CB32 ,  2H025CC03 ,  2H025CC17 ,  2H025FA15 ,  4J036AA02 ,  4J036AA04 ,  4J036AD08 ,  4J036AF06 ,  4J036AF08 ,  4J036AF36 ,  4J036CA20 ,  4J036CA21 ,  4J036CA22 ,  4J036CA28 ,  4J036DA04 ,  4J036DC06 ,  4J036DC10 ,  4J036DC19 ,  4J036DC25 ,  4J036DC31 ,  4J036DC35 ,  4J036DC38 ,  4J036DC39 ,  4J036DC41 ,  4J036DC45 ,  4J036DD07 ,  4J036EA01 ,  4J036EA02 ,  4J036EA03 ,  4J036EA04 ,  4J036FA04 ,  4J036FA09 ,  4J036FA10 ,  4J036FB02 ,  4J036FB03 ,  4J036FB05 ,  4J036FB08 ,  4J036FB10 ,  4J036FB11 ,  4J036FB13 ,  4J036FB16 ,  4J036HA02 ,  4J036JA09 ,  4J036JA10 ,  4J036KA01 ,  4J036KA06 ,  5E314AA21 ,  5E314AA27 ,  5E314AA32 ,  5E314BB05 ,  5E314CC01 ,  5E314FF01 ,  5E314GG01 ,  5E314GG08 ,  5E314GG11 ,  5E314GG14
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (8件)
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