特許
J-GLOBAL ID：200903053277265003
電子線装置及びデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
社本 一夫 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-141172
公開番号（公開出願番号）：特開2003-331772
出願日： 2002年05月16日
公開日（公表日）： 2003年11月21日
要約：
【要約】【課題】 一次電子線の収差を減少し、マルチビームを用いる場合の二次光学系の構造を簡単化しスループットを高める。【解決手段】電子線装置は、試料表面上に複数の一次電子線17を走査する走査手段を有する一次光学系、各一次電子線17の走査により試料Wから放出される二次電子を集束し二次電子線を形成する対物レンズ31、各二次電子線を一次光学系から分離するE×B分離器29、30、一次光学系から分離される各二次電子線をそれぞれ通過させる第2開口板32を有する二次光学系、及び開口板を通過した各二次電子線を検出する検出器34を含む。E×B分離器29、30は対物レンズ31に近接して配置され、検出器34は第2開口板32に近接して配置される。
請求項（抜粋）：
電子を放出する単一の電子銃、電子銃から放出された電子を複数の一次電子線に形成する手段、及び試料表面上に複数の一次電子線を走査する走査手段を有する一次光学系、各一次電子線の走査により試料から放出される二次電子を集束し各二次電子線を形成する対物レンズ、各二次電子線を一次光学系から分離するE×B分離器、及び一次光学系から分離される各二次電子線をそれぞれ通過させる複数の開口を備える開口板を有する二次光学系、並びに開口を通過した各二次電子線を検出する検出器を含み、E×B分離器は対物レンズに近接して配置される電子線装置。
IPC (4件)：
H01J 37/28
, H01J 37/05
, H01J 37/16
, H01J 37/20
H01J 37/28 B
, H01J 37/05
, H01J 37/16
, H01J 37/20 A
5C001BB07
, 5C001CC08
, 5C033AA02
, 5C033UU02
, 5C033UU03
