特許
J-GLOBAL ID:200903053301034824

アルコール・珪素直接合成溶媒からの溶解シリケートの除去

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 浅村 皓 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-517533
公開番号(公開出願番号):特表2003-507384
出願日: 2000年08月08日
公開日(公表日): 2003年02月25日
要約:
【要約】アルコキシシランのスラリー相直接合成で用いられた溶媒からの溶解シラン、シリコーン及びシリケートを、相溶性化剤及び水を添加することにより除去し、濾過可能な沈澱物及び再使用可能な溶媒を生成させる。それにより溶媒が修復され、直接合成法で再使用するのに適したものとなる。修復された溶媒を用いることにより発泡が減少し、珪素転化速度は一層大きくなる。沈澱物は容易に濾過され、保持される溶媒の量は無視できる。
請求項(抜粋):
溶解珪素化合物をその中に含有する使用済み溶媒を再生する方法であって、 前記使用済み溶媒を充分な量の相溶性化剤及び水と接触させ、前記相溶性化剤は前記水を前記使用済み溶媒中に少なくとも部分的に混和可能にするように選択されており、それにより前記溶解珪素化合物を固体シリケート及び(又は)シリカへ転化する反応を行う工程、及び、その後、 前記固体シリケート及び(又は)シリカから前記溶媒を分離する工程、を含む、上記方法。
IPC (7件):
C07C 7/148 ,  C07C 7/10 ,  C07C 7/12 ,  C07C 15/00 ,  C07C 41/58 ,  C07C 43/02 ,  C07F 7/04
FI (7件):
C07C 7/148 ,  C07C 7/10 ,  C07C 7/12 ,  C07C 15/00 ,  C07C 41/58 ,  C07C 43/02 ,  C07F 7/04 H
Fターム (11件):
4H006AA02 ,  4H006AA05 ,  4H006AC13 ,  4H006AD16 ,  4H006AD17 ,  4H006AD30 ,  4H049VQ21 ,  4H049VQ78 ,  4H049VR23 ,  4H049VR41 ,  4H049VS21
引用特許:
審査官引用 (3件)
引用文献:
審査官引用 (1件)
  • 溶剤ハンブック, 1963, p.53-54

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