多重露光方法及び多重露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-324983
公開番号（公開出願番号）：特開2002-134394
出願日： 2000年10月25日
公開日（公表日）： 2002年05月10日
要約：

【要約】【課題】レジストの解像限界を越えるような微細パターンの露光を行う。【解決手段】距離2xのピッチで配列した開口33A、33B...を有する第一マスク33をフォトレジスト層38に載置して一次露光を行う。次に距離2xのピッチで配列し且つ第一マスク33の開口33A...に対して距離x、即ち1ピッチ分ずれた第二マスク34をフォトレジスト層38に施して二次露光を行う。そしてフォトレジスト層38を現像して第一マスク33の開口と第二マスク34の開口で交互に開口部40...を形成したレジストパターンを形成する。開口部40...のレジストパターンのピッチは距離xになる。レジストの解像限界pに対してx≦p<2xとなるのでレジストパターンのピッチをレジストの解像限界以下にできる。

請求項（抜粋）：

複数のマスクにそれぞれ非遮光部が所定ピッチをなし且つ複数のマスク間で1または複数ピッチ分互いに位置をずらせて形成され、これら複数のマスクを1枚づつ順次レジストに施してそれぞれ露光を行うことで、前記レジストに複数のマスクの各非遮光部に対応して交互に配列されたレジストパターンを形成するようにしたことを特徴とする多重露光方法。

IPC (6件)：

H01L 21/027 , G01R 1/073 , G03F 1/08 , G03F 7/20 501 , G03F 7/20 521 , H01L 21/66

FI (6件)：

G01R 1/073 F , G03F 1/08 D , G03F 7/20 501 , G03F 7/20 521 , H01L 21/66 B , H01L 21/30 502 C

Fターム (25件)：

2G011AA15 , 2G011AA17 , 2G011AA21 , 2G011AB06 , 2G011AB08 , 2G011AC14 , 2G011AE03 , 2G011AF07 , 2H095BA12 , 2H095BB02 , 2H095BB33 , 2H095BB36 , 2H095BC09 , 2H097AA12 , 2H097GA45 , 2H097GB02 , 2H097JA02 , 2H097LA10 , 2H097LA12 , 4M106BA01 , 4M106DD03 , 5F046AA13 , 5F046BA01 , 5F046CA02 , 5F046CB17

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開昭63-058825
特開平4-206813
選択的マスク・フィーチャ鮮鋭化用の多重マスク法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-163851 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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