選択的マスク・フィーチャ鮮鋭化用の多重マスク法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：合田潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-163851
公開番号（公開出願番号）：特開平8-051071
出願日： 1995年06月29日
公開日（公表日）： 1996年02月20日
要約：

【要約】【目的】【構成】本発明の好ましい実施例は、通常は非鮮鋭化のフィーチャ・タイプを鮮鋭化する方法である。パターン形状は、別個のフィーチャ・タイプを含む単一のマスクを使用するのではなく、複数の比較的単純な修正されたマスクに置かれる。これらの修正されたマスク(以下、「オーバーレイ・マスク」と称する)の上では、フィーチャのすべてが、普通に鮮鋭化されるタイプである。複合パターンが、オーバーレイ・マスクへの連続露光を介してフォトレジストにプリントされる。

請求項（抜粋）：

パターン形状を、フィーチャ・タイプに従って、少なくとも1つの鮮鋭化されるフィーチャ・グループと少なくとも1つの非鮮鋭化フィーチャ・グループとを含む複数の形状グループにグループ化するステップと、少なくとも1つの前記非鮮鋭化フィーチャ・グループから複数のオーバーレイ・グループを形成するステップと、それぞれが前記複数のオーバーレイ・グループのうちの異なる1つを含み、そのうちの1つが前記少なくとも1つの鮮鋭化されるフィーチャ・グループを含む、複数のオーバーレイ・マスク像を形成するステップとを含む、別個のフィーチャ・タイプを有するパターンの像鮮鋭化の方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 1/00 , G03F 1/08

引用特許：

審査官引用 (8件)

露光方法及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-334121 出願人：株式会社日立製作所
ホトマスク及びマスクパタンデータ処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-070786 出願人：日本電信電話株式会社
特開平4-206813

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