特許

J-GLOBAL ID：200903053363989154

インライン式蒸着装置および成膜方法

発明者： 宮澤 秀明
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-068104
公開番号（公開出願番号）：特開2008-231446
出願日： 2007年03月16日
公開日（公表日）： 2008年10月02日
要約：

【課題】被処理基板に対して複数の蒸着エリアで順次、蒸着を行うインライン式蒸着装置、および成膜方法において、特定の蒸着エリアで成膜される薄膜の膜厚のみを容易かつ確実に調整することのできる構成を提供すること。【解決手段】インライン式蒸着装置100において成膜を行なった際、各蒸着エリア51〜53で被処理基板20に形成される薄膜の膜厚バランスがずれている場合、被処理基板20の搬送速度、および坩堝45での蒸着材料の加熱温度は変更せずに、蒸気流供給量制御用シャッタ11、12、13のスリット状開口部14の幅寸法を調整する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

被処理基板を連続的に搬送する基板搬送手段と、前記被処理基板の搬送経路に沿って配置された複数の蒸着エリアとを有し、当該複数の蒸着エリアの各々には、移動していく前記被処理基板に向けて成膜材料の蒸気流を供給する蒸着源が配置されたインライン式蒸着装置において、 前記複数の蒸着エリアの少なくとも1つには、前記被処理基板と前記蒸着源との間に介在して当該蒸着源から前記被処理基板への蒸気流供給量を制御する蒸気流供給量制御用シャッタが配置されていることを特徴とするインライン式蒸着装置。

IPC (4件)：

C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  C23C 14/56

FI (4件)：

C23C14/24 G ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  C23C14/56 J

Fターム (18件)：

3K107AA01 ,  3K107CC45 ,  3K107GG04 ,  3K107GG32 ,  3K107GG42 ,  4K029AA24 ,  4K029BB03 ,  4K029CA01 ,  4K029CA05 ,  4K029DA12 ,  4K029DB06 ,  4K029DB14 ,  4K029EA00 ,  4K029EA02 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04 ,  4K029KA02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• インライン式有機エレクトロルミネセンス製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-098403   出願人：三菱日立製鉄機械株式会社, 三菱重工業株式会社