特許

J-GLOBAL ID：200903052949923601

インライン式有機エレクトロルミネセンス製造装置

発明者： 神川 進 ,  森崎 裕彦 ,  和田 宏三 ,  吉武 隆 ,  合田 聖彦 ,  平井 悦郎 ,  小林 敏郎 ,  加藤 光雄 ,  平野 竜也
出願人/特許権者： 三菱日立製鉄機械株式会社 ,  三菱重工業株式会社
代理人 (4件)： 光石 俊郎 ,  光石 忠敬 ,  田中 康幸 ,  松元 洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-098403
公開番号（公開出願番号）：特開2005-285576
出願日： 2004年03月30日
公開日（公表日）： 2005年10月13日
要約：

【課題】 成膜品質を向上させると共に、生産効率の高いインライン式有機エレクトロルミネセンス製造装置を提供する。【解決手段】 インライン式有機エレクトロルミネセンス製造装置おいて、マスクが一体化されたホルダを用いて基板を保持し、基板に冷却板を配設することで、基板の温度上昇を抑えて連続搬送を行なう。又、装置内部に差動排気部D1〜D4を設け、異なる真空度の処理室間で、基板を停止させることなく連続搬送が可能な構成とする。【選択図】 図9

請求項（抜粋）：

独立して雰囲気及び真空度を制御可能な複数の処理室と、 前記複数の処理室へ基板を連続的に搬送する搬送手段とを有し、 前記複数の処理室における所定の処理を経て、前記基板に有機エレクトロルミネセンス素子を形成するインライン式有機エレクトロルミネセンス製造装置であって、 前記基板に成膜される薄膜のパターンが形成されたマスクを備えると共に、たわみを防止して前記基板を保持する保持手段を有し、 前記搬送手段は、前記保持手段を用いて、前記複数の処理室へ前記基板を連続的に搬送することを特徴とするインライン式有機エレクトロルミネセンス製造装置。

IPC (5件)：

H05B33/10 ,  C23C14/12 ,  C23C14/24 ,  C23C14/50 ,  H05B33/14

FI (6件)：

H05B33/10 ,  C23C14/12 ,  C23C14/24 G ,  C23C14/50 F ,  C23C14/50 K ,  H05B33/14 A

Fターム (13件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029BA62 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DA12 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04 ,  4K029KA01

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 連続蒸着装置、蒸着装置及び蒸着方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-153367   出願人：城戸淳二, 株式会社アイメス
• 有機電界発光素子の製造方法および製造装置並びに有機電界発光素子を用いた表示装置の製造システムおよび製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-133536   出願人：ソニー株式会社

審査官引用 (9件)

• 連続蒸着装置、蒸着装置及び蒸着方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-153367   出願人：城戸淳二, 株式会社アイメス
• 蒸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-157963   出願人：株式会社半導体エネルギー研究所
• イオンプレ-ティング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-073131   出願人：日本鋼管株式会社, 中外炉工業株式会社
• インライン式真空成膜装置およびその冷却制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-373828   出願人：ソニー株式会社
• 基板保持装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-113344   出願人：キヤノン株式会社
• 成膜装置及び成膜方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-023528   出願人：株式会社半導体エネルギー研究所
• 加熱処理装置の冷却方法及び加熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-241140   出願人：東京エレクトロン株式会社
• リフロー装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-179171   出願人：富士通株式会社
• 基板の冷却構造
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-098402   出願人：三菱日立製鉄機械株式会社