特許
J-GLOBAL ID:200903053394201580
ポリビニルピロリドンの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
岸田 正行 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-003326
公開番号(公開出願番号):特開2000-204118
出願日: 1999年01月08日
公開日(公表日): 2000年07月25日
要約:
【要約】【課題】 ラジカル形成剤として分解生成物も安全なジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートを使用し、高分子量で分子量分布の狭い、電子材料や化粧品等にも使用できる不純物の少ないポリビニルピロリドンの製造方法を提供する。【解決手段】 水性媒体中ラジカル形成化合物としてジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートの存在下で、ラジカルにより開始される溶液重合によりビニルピロリドンモノマーからポリビニルピロリドンを製造する方法において、原料のビニルピロリドンモノマー中の塩基性不純物を吸着剤で除去したビニルピロリドンモノマーを使用することを特徴とするポリビニルピロリドンの製造方法。
請求項(抜粋):
水性媒体中ラジカル形成化合物としてジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレートの存在下で、ラジカルにより開始される溶液重合によりビニルピロリドンモノマーからポリビニルピロリドンを製造する方法において、原料のビニルピロリドンモノマー中の塩基性不純物を吸着剤で除去したビニルピロリドンモノマーを使用することを特徴とするポリビニルピロリドンの製造方法。
IPC (3件):
C08F 26/10
, C08F 2/10
, C08F 4/04
FI (3件):
C08F 26/10
, C08F 2/10
, C08F 4/04
Fターム (9件):
4J011HA02
, 4J011HB10
, 4J011HB22
, 4J015AA06
, 4J100AQ08P
, 4J100CA01
, 4J100FA19
, 4J100JA43
, 4J100JA61
引用特許:
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