特許
J-GLOBAL ID：200903053429813451
処理状態表示装置及び処理状態表示システム
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
三好 秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-337436
公開番号（公開出願番号）：特開平11-176715
出願日： 1997年12月08日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：
【要約】【課題】 半導体製造装置の基板処理状況を表示すること。【解決手段】 半導体製造装置内には従来から装置の動作を制御する制御装置(図示せず)が内蔵され、この制御装置は基板の処理状態を把握している。そこで、前記制御装置に基板の処理状態を取得して、新たに設けた3個の表示器12a、12b、12cを前記基板の処理状態に応じて点灯する手段を設け、この手段により、基板処理後は表示器12aを点灯し、基板処理中は表示器12bを点灯し、基板処理前は表示器12cを点灯する。これにより、半導体製造装置の基板処理状態がオペレータに明示される。
請求項（抜粋）：
基板に処理を施す製造装置と、この製造装置の基板の処理状況を取得する手段と、この手段により取得された基板の処理状況を、基板処理前、基板処理中、基板処理後に区別して表示する表示手段と、を有することを特徴とする処理状態表示装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/02 Z
, H01L 21/68 A
