特許
J-GLOBAL ID：200903053436690527
パターン欠陥検査方法および検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-052035
公開番号（公開出願番号）：特開平6-265480
出願日： 1993年03月12日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：
【要約】【目的】位相シフトマスクのような試料の場合であっても、構成の複雑化を招かず、簡単に、かつ厳密な検査を行えるパターン欠陥検査方法および検査装置を提供する。【構成】被検査パターンの形成されている試料を光学的に走査して得られた測定データ(S)と試料への被検査パターンの作成時に用いた設計データ(Q)とを順次比較(16,17)して被検査パターンの欠陥を検出するパターン欠陥検査方法において、一定形状のパターンが繰返し形成されている領域では、少なくとも前記走査によって順次得られる一定領域分毎の測定データ同士を比較(19,20,21,21,23)して被検査パターンの欠陥情報を得る検査手法を取入れている。
請求項（抜粋）：
被検査パターンの形成されている試料を光学的に走査して得られた測定データと上記試料への上記被検査パターンの作成時に用いた設計データとを順次比較して上記被検査パターンの欠陥を検出するパターン欠陥検査方法において、一定形状のパターンが繰返し形成されている領域では、少なくとも前記走査によって順次得られる一定領域分毎の測定データ同士または上記走査によって順次得られる一定領域分毎の測定データと基準となる上記一定領域分のデータとを比較して前記被検査パターンの欠陥情報を得る検査手法を取入れていることを特徴とするパターン欠陥検査方法。
IPC (4件)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, G06F 15/62 405
, H01L 21/66
