特許
J-GLOBAL ID：200903053450647782

露光装置及び方法

発明者：
高林 幸夫

高林 幸夫 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-324383
公開番号（公開出願番号）：特開平8-181057
出願日： 1994年12月27日
公開日（公表日）： 1996年07月12日
要約：
【要約】【目的】 ウエハチャックに確率的に発生し得る異物の付着に起因した装置の稼動停止時間をできるかぎり短縮する。【構成】 レチクル2のパターンが露光転写されるウエハ4を所定平面に沿って移動するステージ6と、ステージ上でウエハを吸着保持するウエハチャック5を収納する収納部8と、ステージ上のウエハチャックを収納部に収納されている新しいウエハチャックに交換するために収納部からウエハチャックをステージ上に搬送するチャック搬送ロボット7と、ステージ上のウエハチャックにウエハを搬送するウエハ搬送ロボット14,17を有する。
請求項（抜粋）：
原板のパターンが露光転写される基板を所定平面に沿って移動するステージと、前記ステージ上で基板を吸着保持する基板チャックを収納する収納手段と、前記ステージ上の基板チャックを前記収納手段に収納されている基板チャックに交換するために前記収納手段から前記基板チャックを前記ステージ上に搬送するチャック搬送手段と、前記ステージ上の基板チャックに基板を搬送する基板搬送手段を有することを特徴とする露光装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  B25J 15/04 ,  B25J 18/00 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68
FI (3件)：
H01L 21/30 514 D ,  H01L 21/30 503 C ,  H01L 21/30 503 G
引用特許：
審査官引用 (5件)
  • 特開平4-171805
  • 特開平2-271514
  • 特開平1-184821
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