特許

J-GLOBAL ID：200903053475598751

ナノ構造炭素材料の製造方法、それにより形成されたナノ構造炭素材料及び基板

発明者： 近藤 慶和
出願人/特許権者： コニカミノルタホールディングス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-123897
公開番号（公開出願番号）：特開2005-306643
出願日： 2004年04月20日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：

【課題】 低温で、基板上に均一且つ収率良くカーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、グラファイトナノファイバーなどのナノ構造炭素材料を配向形成することができるナノ構造炭素材料の製造方法を提供する。【解決手段】 金属化合物の溶液を基板上に塗布する工程と、乾燥した後にプラズマ処理することにより金属化合物の金属成分以外の成分を分解除去し基板上に金属酸化物微粒子を付与する工程と、基板上にナノ構造炭素材料を形成する工程を有することを特徴とするナノ構造炭素材料の製造方法。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

金属化合物の溶液を基板上に塗布する工程と、乾燥した後にプラズマ処理することにより金属化合物の金属成分以外の成分を分解除去し基板上に金属酸化物微粒子を付与する工程と、基板上にナノ構造炭素材料を形成する工程を有することを特徴とするナノ構造炭素材料の製造方法。

IPC (2件)：

C01B31/02 ,  B82B3/00

FI (3件)：

C01B31/02 101F ,  B82B3/00 ,  B01J23/74 321M

Fターム (27件)：

4G069AA08 ,  4G069BA14B ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BC68B ,  4G069CB81 ,  4G069DA06 ,  4G069FA02 ,  4G069FB14 ,  4G069FB58 ,  4G069FC06 ,  4G146AA11 ,  4G146AC16B ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BC09 ,  4G146BC23 ,  4G146BC25 ,  4G146BC26 ,  4G146BC32B ,  4G146BC42 ,  4G146BC43 ,  4G146BC44 ,  4G146DA03 ,  4G146DA16 ,  4G146DA23 ,  4G146DA40

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 熱CVD法によるグラファイトナノファイバー薄膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-307962   出願人：株式会社アルバック
• カーボンナノチューブ薄膜形成装置及び形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-242086   出願人：日本真空技術株式会社