特許
J-GLOBAL ID：200903053504900071

NDフィルタ、NDフィルタの製造方法、光量調節装置および撮影装置

発明者：
川上 良男

川上 良男 について


出願人/特許権者：
キヤノン電子株式会社

キヤノン電子株式会社 について


代理人 (1件)： 岸田 正行 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-074073
公開番号（公開出願番号）：特開2002-277612
出願日： 2001年03月15日
公開日（公表日）： 2002年09月25日
要約：
【要約】【課題】 NDフィルタにおいて、蒸着により反射防止膜と透過率制御膜を成形すると、蒸着回数が多くなり、生産性が低下する。【解決手段】 光量調節に用いられるNDフィルタを、プラスチック基材8-3の表面および裏面のうち少なくとも一方に、湿式成膜法により反射防止膜8-4を形成して製造するようにする。プラスチック基材における反射防止膜の反対側の面又は反射防止膜上に蒸着により透過率制御膜を形成する。
請求項（抜粋）：
光量調節に用いられるNDフィルタであって、プラスチック基材の表面および裏面のうち少なくとも一方に、湿式成膜法により形成された反射防止膜を有することを特徴とするNDフィルタ。
IPC (6件)：
G02B 5/00 ,  G02B 1/11 ,  G02B 1/10 ,  G03B 7/18 ,  G03B 9/02 ,  H04N 5/238
FI (6件)：
G02B 5/00 A ,  G03B 7/18 ,  G03B 9/02 A ,  H04N 5/238 Z ,  G02B 1/10 A ,  G02B 1/10 Z
Fターム (23件)：
2H002CC21 ,  2H002HA03 ,  2H002JA07 ,  2H042AA02 ,  2H042AA08 ,  2H042AA22 ,  2H080AA20 ,  2H080AA31 ,  2K009AA05 ,  2K009BB24 ,  2K009BB28 ,  2K009CC03 ,  2K009CC06 ,  2K009CC09 ,  2K009CC24 ,  2K009CC26 ,  2K009CC34 ,  2K009DD02 ,  2K009DD03 ,  2K009EE00 ,  5C022AA00 ,  5C022AB14 ,  5C022AC55
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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