特許
J-GLOBAL ID：200903053516112826
イオン注入装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-208091
公開番号（公開出願番号）：特開平5-047340
出願日： 1991年08月20日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：
【要約】【構成】 ドーズファラデ7に入射されるイオンビームのビーム電流はカレントインテグレータ8で注入コントローラ13の信号処理に適したパルス信号に変換される。注入コントローラ13は、上記パルス信号から1回のビーム走査当たりの測定値(電荷量)Cs を割り出し、この測定値Cs から、イオンビームがドーズファラデ7に入射されていない状態のときに測定された誤差値Cn を差し引いて補正値Cs ′(=Cs -Cn )を求め、この補正値Cs ′に基づいて、プラテン駆動機構2の動作を制御することによりウエハ6の移動速度を制御する。【効果】 上記誤差値は、ノイズレベルおよび/またはベースラインレベルである。即ち、注入量の制御に及ぼすベースラインのドリフトやノイズの影響を減少できるので、略設定された通りの注入ドーズ量によりイオン注入動作が行える。
請求項（抜粋）：
ビームコレクタに入射するイオンビームのビーム電流を測定するビーム電流測定手段と、上記ビーム電流測定手段からの出力に基づいてイオン注入量の制御を行う注入制御手段とを有するイオン注入装置において、上記注入制御手段は、イオン注入動作中にビーム電流測定手段により測定される測定値から、イオンビームがビームコレクタに入射していない状態のときにビーム電流測定手段により測定された誤差値を差し引いた補正値に基づいてイオン注入量の制御を行うことを特徴とするイオン注入装置。
IPC (5件)：
H01J 37/317
, C23C 14/48
, C23C 14/54
, H01J 37/04
, H01L 21/265
