特許
J-GLOBAL ID：200903053571802750
ポジ型レジスト溶液
発明者：
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-175709
公開番号（公開出願番号）：特開平7-036180
出願日： 1993年07月15日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【構成】 (A)アルカリ可溶性樹脂、(B)キノンジアジド基含有化合物及び(C)(A)成分と(B)成分の合計量に基づき0.001〜0.1重量%の範囲の量の、一般式P(OR)3(式中のRは低級アルキル基を示す)で表わされる亜リン酸エステルを、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートに溶解して成るポジ型レジスト溶液である。【効果】 レジストの感光性成分の析出や、感度及び粘度の経時変化がなく、保存安定性に優れ、かつ高解像度でデフォーカスマージンが広く実用的で、特に半導体素子製造用に好適である。
請求項（抜粋）：
(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)キノンジアジド基含有化合物及び(C)(A)成分と(B)成分の合計量に基づき0.001〜0.1重量%の範囲の量の、一般式P-(OR)3(式中のRは、低級アルキル基を示す)で表わされる亜リン酸エステルを、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートに溶解して成るポジ型レジスト溶液。
IPC (3件)：
G03F 7/022
, G03F 7/004 502
, H01L 21/027
