特許

J-GLOBAL ID：200903053583666070

シリカゲルの製造方法

発明者： 勝呂 芳雄 ,  山口 隆 ,  吉森 孝幸
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-198224
公開番号（公開出願番号）：特開2002-080217
出願日： 2001年06月29日
公開日（公表日）： 2002年03月19日
要約：

【要約】【課題】 耐熱性、耐水性などに優れた新規なシリカゲルの製造方法を提供する。【解決手段】 シリコンアルコキシドを加水分解し、得られたヒドロゲルを実質的に熟成することなく水熱処理することを特徴とするシリカゲルの製造方法。

請求項（抜粋）：

シリコンアルコキシドを加水分解し、得られたヒドロゲルを実質的に熟成することなく水熱処理することを特徴とするシリカゲルの製造方法。

Fターム (13件)：

4G072AA28 ,  4G072CC10 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH19 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ23 ,  4G072PP05 ,  4G072RR05 ,  4G072RR07 ,  4G072RR12 ,  4G072RR19

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特公昭47-024359
  
• 特開平4-193708
  
• シリカゲルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-185171   出願人：日本シリカ工業株式会社

審査官引用 (3件)

• 特公昭47-024359
  
• 特開平4-193708
  
• シリカゲルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-185171   出願人：日本シリカ工業株式会社