特許
J-GLOBAL ID:200903053618070850

プローブステーション

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉村 暁秀 (外7名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-096853
公開番号(公開出願番号):特開平8-321530
出願日: 1996年04月18日
公開日(公表日): 1996年12月03日
要約:
【要約】【課題】 低電流、低電圧測定の間に観察される雑音を著しく低減するために望まれる、温度制御されるチャックと共に用いるための付加的な層を提供する。【解決手段】 低雑音測定に適したプローブステーションが、試験装置を支持するためのチャックとその試験装置用の支持表面とを含んでいる。このプローブステーションは前記の試験装置の付近における温度を感知すること、及びその感知に応答して、二者択一的に前記の温度を上げるか又は下げることにより、前記試験装置の付近における温度を制御するための手段を有する。絶縁物層へ固着された第1の導電性層を含んでいる少なくとも二つの層が前記の支持表面と前記のチャックとの間に置かれる。前記の導電性層は前記のチャックと支持表面とのうちの一方へ電気的に接続される。
請求項(抜粋):
低雑音測定に適したプローブステーションであって、(a) 試験装置を支持するためのチャックと、(b) 前記試験装置の付近における温度を感知すること及び、前記の感知に応答して、二者択一的に前記の温度を上げるか又は下げることにより、前記試験装置の付近における温度を制御するための手段と、(c) 前記の試験装置用の支持表面と、(d) 絶縁物層へ固着された導電性層を含んでいる少なくとも二つの層と、を具え、且つ(e) 前記の導電性層が前記のチャックと支持表面とのうちの一方へ電気的に接続されており、且つ前記の少なくとも二つの層は前記の支持表面と前記のチャックとの間へ置かれている、プローブステーション。
IPC (3件):
H01L 21/66 ,  G01R 1/06 ,  G01R 31/28
FI (3件):
H01L 21/66 B ,  G01R 1/06 E ,  G01R 31/28 K
引用特許:
審査官引用 (3件)

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