特許

J-GLOBAL ID：200903053649639991

基板回転式処理装置

発明者： 吉井 弘至 ,  福冨 義光 ,  杉本 憲司
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-317304
公開番号（公開出願番号）：特開平9-138508
出願日： 1995年11月10日
公開日（公表日）： 1997年05月27日
要約：

【要約】【課題】 基板上に供給された処理液が基板上でスムーズに拡散流動して基板の表面全体に均一に広がり、処理の均一性を向上させることができる装置を提供する。【解決手段】 処理液供給ノズル10の横長の前壁面の各吐出口16から吐出される処理液18の流出方向が、基板Wの表面に沿った方向でかつ基板の回転方向と同一方向となるように、処理液供給位置において処理液供給ノズルを配置する。

請求項（抜粋）：

基板を水平姿勢に保持して鉛直軸回りに回転させる基板保持・回転手段と、処理液を吐出する吐出口を有し、前記基板保持・回転手段に保持された基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルと、この処理液供給ノズルを待機位置と処理液供給位置との間で移動させるノズル移動手段とを備えた基板回転式処理装置において、前記処理液供給ノズルが、横長の前壁面を有し、その前壁面に、長手方向に並列させて複数個の吐出口を形設し、その各吐出口からの処理液の吐出方向がそれぞれ、前記基板保持・回転手段に保持されて回転する基板の表面に沿った方向でかつ基板の回転方向と同一方向となるように、前記ノズル移動手段により処理液供給位置において処理液供給ノズルを配置したことを特徴とする基板回転式処理装置。

IPC (2件)：

G03F 7/30 502 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 569 C

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭59-109273
  
• 特公平5-068092
  
• 特開昭57-192955
  

審査官引用 (3件)

• 特開昭59-109273
  
• 特開昭59-109273
  
• 輻輳制御方式
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-254207   出願人：日本電気株式会社