特許

J-GLOBAL ID：200903053780665248

基板処理装置及び基板処理方法

発明者： 権守 和彦
出願人/特許権者： 日立電子エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 影井 俊次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-102158
公開番号（公開出願番号）：特開2001-284777
出願日： 2000年04月04日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
要約：

【要約】【課題】 エアナイフ効果で薄板基板の乾燥を行うに当って、一度液が除去された位置にミストが付着するのを防止する。【解決手段】 洗浄領域1で洗浄された基板Sは隔壁3の開口から乾燥領域2に移行して、この乾燥領域2に設けたエアナイフノズル20を備えた乾燥装置5を用いて乾燥される。基板Sの搬送方向において、エアナイフノズル20は下流側、アクアナイフノズル30は上流側に配置されており、アクアナイフノズル30から噴射される加圧純水はエアナイフノズル20から噴射されるエアに近接した位置で基板Sに突入するように設定している。

請求項（抜粋）：

薄板基板を水平または搬送方向と直交する方向に所定の角度傾斜した状態で搬送する基板搬送手段と、少なくともこの基板搬送方向と直交する方向の全長にわたって加圧したエアを噴射するスリット状のエア噴射口を有し、薄板基板の搬送方向に対向する方向に所定の入射角でエアを吹き付けるエアナイフノズルと、前記エアナイフノズルによる前記薄板基板へのエア突入位置のより基板搬送方向の上流側の位置に、薄板基板の搬送方向に対向する方向に斜め上方から所定の角度をもって、この基板搬送方向と直交する方向のほぼ全長にわたって水をほぼ薄膜状となるように噴射させるアクアナイフノズルとを備える構成としたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (7件)：

H05K 3/26 ,  B08B 3/02 ,  F26B 5/00 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/306

FI (7件)：

H05K 3/26 C ,  B08B 3/02 C ,  F26B 5/00 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/304 651 G ,  H01L 21/304 651 L ,  H01L 21/306 R

Fターム (33件)：

2H088FA21 ,  2H088FA24 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  3B201AA02 ,  3B201AB14 ,  3B201BB90 ,  3B201BB93 ,  3B201CB01 ,  3B201CC12 ,  3B201CD11 ,  3L113AA02 ,  3L113AB01 ,  3L113AC30 ,  3L113AC31 ,  3L113AC46 ,  3L113AC48 ,  3L113AC73 ,  3L113BA34 ,  3L113CB20 ,  3L113CB21 ,  3L113CB23 ,  3L113DA24 ,  5E343AA22 ,  5E343AA26 ,  5E343EE01 ,  5E343FF23 ,  5E343GG11 ,  5F043EE07 ,  5F043EE35 ,  5F043EE36 ,  5F043EE40 ,  5F043GG10

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 処理液処理方法および基板連続処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-353330   出願人：東レ株式会社
• 表面改質方法およびこれを用いた液晶表示装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-255565   出願人：シャープ株式会社