特許

J-GLOBAL ID：200903053815448652

超紫外放射を得るための方法および超紫外放射源ならびにリソグラフィーへの応用

発明者： ダニエル・バボノー ,  レミー・マルモレ ,  ローレンス・ボネ
出願人/特許権者： コミツサリア タ レネルジー アトミーク
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外7名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-538459
公開番号（公開出願番号）：特表2003-515109
出願日： 2000年11月14日
公開日（公表日）： 2003年04月22日
要約：

【要約】本発明は、超紫外放射を得るための方法、および、超紫外放射源、ならびに、リソグラフィーへの応用に関するものである。本発明においては、第1面(30)上に焦点合わせされたレーザービーム(34)との相互作用によって超紫外放射を放出し得る少なくとも1つの固体ターゲット(28)を使用する。このターゲットは、前記第1面とは反対側に位置した第2面(37)から超紫外照射の一部を放出することができる。超紫外照射のこの一部(36)が収集され、使用箇所へと伝達される。

請求項（抜粋）：

超紫外放射を得るための方法であって、 第1面と第2面とを有するとともに前記第1面(30)上に焦点合わせされたレーザービーム(34)との相互作用によって超紫外放射を放出し得る少なくとも1つの固体ターゲット(28,42)を使用する方法において、 前記ターゲット(28,42)を、前記レーザービームとの相互作用によって前記超紫外放射を放出し得る材料を備えたものとし、 前記ターゲットの厚さを、0.05μm〜5μmの範囲とし、これにより、前記ターゲットを、該ターゲットの前記第2面(37)から前記超紫外照射の一部(36)を異方的に放出し得るものとし、 前記超紫外照射の前記一部(36)を収集し、使用箇所へと伝達することを特徴とする方法。

IPC (4件)：

G21K 5/08 ,  G21K 5/02 ,  H01L 21/027 ,  G21K 7/00

FI (4件)：

G21K 5/08 X ,  G21K 5/02 X ,  G21K 7/00 ,  H01L 21/30 531 S

Fターム (1件)：

5F046GC01

引用特許：

審査官引用 (2件)

• レーザプラズマX線発生装置とそれを用いた微細パターン転写方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-006110   出願人：株式会社日立製作所
• パルス状高輝度硬X線またはγ線の発生方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-154283   出願人：関西ティー・エル・オー株式会社